日本セラミックス協会第28回秋季シンポジウムにおいて、鈴木脇谷研究室の新井 貴司君(博士課程2年)が優秀賞を、 鳥居佳那子さん(鈴木脇谷研究室・修士課程2年) が奨励賞を受賞しました。
2015年9月16日(水)~18日(金)に富山大学で開催された日本セラミックス 協
会第28回秋季シンポジウムにおいて、新井貴司君(鈴木脇谷研究室・博士課程2
年)、鳥居佳那子さん(鈴木脇谷研究室・修士課程2年)が、それぞれ優秀 賞、
奨励賞を 受賞しました。
受賞論文
新井貴司君 「Si基板上でエピタキシャル成長させたCSD法PMN-PT薄膜の誘電及び圧電特性」
鳥居佳那子さん 「PZT薄膜の電気特性に及ぼすポーラスシリコン基板の影響」




